진공플라즈마

바이오 및 의료 산업 현장에서는 표면의 상태를 제어하고, 멸균 환경을 유지하며, 재생 효과까지 동시에 요구하는 경우가 많습니다. 리바이시스템은 이러한 복합적인 요구에 대응하기 위해 공정 목적에 맞춘 PLASMA 기술을 바탕으로 다양한 바이오·의료 장비를 자체 설계 및 제작하고 있습니다. 본 콘텐츠에서는 피부 재생 장비, 멸균·소독 시스템, 그리고 바이오 공정용 정밀 장비를 중심으로 리바이시스템의 바이오 PLASMA 적용 사례를 정리해 소개합니다. 1. PLASMA 피부 재생 장비 피부 재생 장비는 저온 조건에서 에너지를 안정적으로 제어해 피부 표면에 과도한 자극을 주지 않으면서 내부 반응을 유도하도록 설계됩니다. 화학 성분이나 고열에 의존하지 않는 방식으로, 의료 및 에스테틱 분야에서 활용도가 높습니..

PLASMA 2026. 1. 8. 12:08

제조 공정에서 표면 상태는 제품의 품질과 직결됩니다. 특히 최근 산업 현장에서는 고온 공정으로 인한 소재 손상과 공정 불안정을 피하기 위해 저온 조건에서 정밀한 반응을 구현할 수 있는 친환경 에칭 기술이 중요한 선택 기준으로 자리 잡고 있습니다. 이러한 흐름 속에서 대기압 방식의 플라즈마 에칭 기기는 공정 효율과 운용 편의성 측면에서 주목받고 있습니다. 대기압 플라즈마 장비 선택의 기준 1. 저온 대기압 플라즈마 에칭의 공정 개념 저온 대기압 플라즈마 에칭은 별도의 챔버 감압 과정 없이 대기 환경에서 공정을 수행하는 방식입니다. 장비 구조가 비교적 단순하며, 공정 준비 시간이 짧아 생산 인라인 적용이 수월합니다. 또한 공정 조건 변화에 대한 대응이 빠르다는 점에서 다품종 소량 생산부터 연속 공정까지 ..

PLASMA 2026. 1. 7. 17:33

-진공 플라즈마란 무엇인가 진공 PLASMA는 낮은 압력 환경에서 가스를 이온화하여 표면 반응을 정밀하게 제어하는 공정 기술입니다. 반도체, 디스플레이, 반도체 에칭 및 첨단 소재 분야에서 세정, 활성화, 식각, 표면 개질 공정의 기초 기술로 활용되며, 공정 결과의 재현성과 조건 해석이 중요한 영역에서 널리 사용됩니다. -진공 플라즈마 장비 선택의 기준 진공 플라즈마 공정에서 중요한 것은 특정 장비 모델이나 외형이 아닙니다. 핵심은 원하는 공정 조건을 얼마나 정확하고 안정적으로 구현할 수 있는가입니다. 이를 위해 장비는 다음과 같은 기본 조건을 갖추어야 합니다. 공정 목적에 맞는 챔버 크기와 내부 구조, 안정적인 전극 배치와 전극 간 거리 설계, 충분한 출력 여유와 정밀한 제어 능력, 가스 유량과 진공 ..

PLASMA 2026. 1. 7. 00:35

반도체 같은 비교적 정밀성을 요구하는 식각장비를 검토하다 보면 ICP 방식과 CCP 방식이라는 용어를 자연스럽게 접하게 됩니다. 두 방식은 같은 목적을 향하지만, 에너지를 전달하는 구조와 공정 성향에서는 분명한 차이를 보입니다. 이 글에서는 구조적 차이와 운용 관점에서의 특징을 중심으로, 두 방식이 어떤 환경에서 각각 적합한지를 정리하겠습니다. 1. 표면처리에 있어 식각장비가 필요한 이유 산업 공정에서 표면 상태는 최종 품질에 직접적인 영향을 미칩니다. 접착 불량이나 코팅 박리 문제의 상당수는 소재 자체보다 표면 조건에서 발생합니다. 이러한 문제를 개선하기 위해 표면의 반응성을 높이거나 오염 요소를 제거하는 공정이 적용되며, 이 과정의 안정성과 균일성이 장비 성능을 판단하는 기준이 됩니다. 2. ICP ..

PLASMA 2025. 12. 22. 13:59