연구용 반도체 식각장비 V-600, 대형 진공 플라즈마 제작 전문 기업
대형 진공 플라즈마 식각장비 1. 공정 안정성을 기준으로 설계된 V-600 플라즈마 표면처리 장비반도체 공정이나 산업용 표면 처리에서 플라즈마 장비를 선택할 때 가장 중요한 요소는 단순한 출력 수치가 아니라 공정 안정성과 재현성입니다. V-600은 이러한 현장 요구를 기준으로 설계된 대형 진공 플라즈마 시스템으로, 반복 운전 환경에서도 공정 편차를 최소화하는 데 초점을 맞추고 있습니다. 연구 단계에서 검증된 조건을 파일럿 및 산업 환경으로 확장해야 하는 경우에 적합한 장비 구성입니다. 2. 다양한 시료를 고려한 대형 챔버 구성 V-600은 약 160리터 규모의 유효 챔버 용적을 기반으로, 크기와 형상이 서로 다른 시편을 하나의 장비에서 처리할 수 있도록 설계되었습니다. 단일 제품이 아닌 여러 조건의 시편..
Products
2026. 1. 2. 17:02